Titan-Zielscheiben

Das Titan-Sputter-Target ist eine Art Titanprodukt mit einer dünnen Sputterbeschichtung. Die Reinheit ist der Schlüssel für die Leistung der Titan-Sputter-Beschichtung, je höher die Reinheit ist, desto besser die Korrosionsbeständigkeit und die elektrischen und optischen Eigenschaften der Titan-Sputter-Film. Die Titan-Targets haben eine breite Anwendung für Halbleitergeräte (abgeschiedener Film oxidiert zu TiO2 als Strahlenteiler oder Isolator), Architekturglas, PV/Solar, Dekoration, Optik, PVD-Beschichtungsanwendungen. Bei energy titanium bieten wir gegossene oder geschmiedete Titan-Targets an, die aus Titan-Stangen oder -Platten hergestellt und anschließend mit CNC-Maschinen bearbeitet werden, um die Funktionalität in einer Vielzahl von Beschichtungsanwendungen zu erhöhen. Unsere Targets werden aus hochreinem Titan mit feiner und gleichmäßiger Struktur hergestellt, das während seiner gesamten Lebensdauer eine geringe Partikelgröße aufweist.

Titan-Zielscheiben Spezifikation

Mit der rasanten Entwicklung von Halbleitern, elektronischen Informationen und anderen High-Tech-Bereichen steigt der Anteil an hochreinem Titan in den Targetmaterialien. Titan-Targets, die durch Sputtering-Beschichtungstechnologien hergestellt werden, weisen eine höhere Reinheit und eine geringere durchschnittliche Korngröße auf und eignen sich für den Einsatz in der Halbleiterindustrie, der Informationselektronik, der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD), der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und für optische Anwendungen.

Sektor Halbleiteranwendungen:

• Flachbildschirm
• Integrierte Schaltungen

Energy-Ti ist auf die Herstellung von hochreinen Titan-Sputter-Targets für die Halbleiter- und elektronische Informationsindustrie in Form von Platten, Scheiben und Rohren spezialisiert. Wenn Sie sich für die Titanprodukte interessieren, können Sie uns auch kontaktieren über [email protected] oder senden Sie uns direkt eine Anfrage.