Titan-Targets

Das Titan-Sputtertarget ist eine Art Titanprodukt mit einem dünnen Sputterbeschichtungsfilm. Die Reinheit ist der entscheidende Punkt für die Leistung der Titan-Sputterbeschichtung, je höher die Reinheit ist, desto besser sind die Korrosionsbeständigkeit und die elektrischen und optischen Eigenschaften des Titan-Sputterfilms. Die Titan-Targets haben eine breite Anwendung für Halbleiterbauelemente (abgeschiedener Film, der als Strahlteiler oder Isolator zu TiO2 oxidiert wird), Architekturglas, PV/Solar, Dekoration, Optik, PVD-Beschichtungsanwendungen. Bei Energy Titanium bieten wir das Gießen oder Schmieden von Titan-Targets aus Titanstangen oder -platten und schließlich CNC-Maschinen, die dazu beitragen, die Funktionalität in einer Vielzahl von Beschichtungsanwendungen zu erhöhen. Unsere Targets werden aus hochreinem Titan mit feiner und gleichmäßiger Struktur hergestellt, das in der geringen Partikelgröße über seine gesamte Lebensdauer gebunden ist.

Spezifikation für Titanziele

Mit der rasanten Entwicklung von Halbleitern, elektronischen Informationen und anderen Hightech-Bereichen nimmt die Menge an hochreinem Titan in Zielmaterialien zu. Durch Sputterbeschichtungstechnologien hergestellte Titantargets haben die höhere Reinheit und kleinere mögliche durchschnittliche Korngrößen zur Verwendung in Halbleitern, elektronischen Informationen, Displays mit physikalischer Dampfabscheidung (PVD), chemischen Dampfabscheidungen (CVD) und optischen Anwendungen.

Bereich Halbleiteranwendungen:

• Flat Panel Display
• Integrierte Schaltkreise

Energy-Ti ist auf die Herstellung von Sputtertargets aus hochreinem Titan für die Halbleiter- und elektronische Informationsindustrie in Platten-, Scheiben- und Rohrform spezialisiert. Wenn Sie Interesse an den Titanprodukten haben, können Sie uns auch per kontaktieren [E-Mail geschützt] oder senden Sie uns direkt eine Anfrage.