Mål av titan

Sputteringmål av titan är en typ av titanprodukt med en tunn sputterbeläggningsfilm. Renheten är nyckelpunkten för prestandan hos titansputterbeläggningen, ju högre renhet desto bättre korrosionsbeständighet och elektriska och optiska egenskaper hos den titansputterade filmen. Titanmålen har en bred tillämpning för halvledaranordningar (avsatt film oxiderad till TiO2 som en stråldelare eller isolator), arkitekturglas, PV / sol, dekoration, optik, PVD-beläggningsapplikationer. På Energy Titanium tillhandahåller vi gjutning eller smide av titantavlor, tillverkade av titanstång eller -plåt och slutligen CNC-maskin, vilket hjälper till att öka funktionaliteten i ett brett spektrum av beläggningsapplikationer. Våra mål tillverkas av titan med hög renhet och fin och enhetlig struktur, med låg partikelstorlek under hela dess livslängd.

Titanmål Specifikation

Med den snabba utvecklingen av halvledare, elektronisk information och andra högteknologiska områden ökar mängden titan med hög renhet i targetmaterial. Titanmål som tillverkas med sputtering-beläggningsteknik har högre renhet och mindre möjliga genomsnittliga kornstorlekar för användning i halvledare, elektronisk information, PVD-display (Physical Vapor Deposition), CVD (Chemical Vapor Deposition) och optiska tillämpningar.

Sektorn för halvledartillämpningar:

• Platt bildskärm
• Integrerade kretsar

Energy-Ti är specialiserat på att tillverka sputtering targets i titan med hög renhet för halvledarindustrin och den elektroniska informationsindustrin i form av plattor, skivor och rör. Om du är intresserad av titanprodukterna kan du också kontakta oss via [email protected] eller skicka en förfrågan direkt till oss.