Target Titanium

Target sputtering titanium adalah sejenis produk titanium dengan film pelapis sputter tipis. Kemurnian adalah titik kunci untuk kinerja lapisan sputter titanium, semakin tinggi kemurniannya, semakin baik ketahanan korosi dan sifat listrik dan optik dari film sputter titanium. Target titanium memiliki aplikasi yang luas untuk perangkat semikonduktor (film yang diendapkan dioksidasi menjadi TiO2 sebagai pembagi berkas atau isolator), kaca arsitektur, PV / Solar, Dekorasi, Optik, aplikasi pelapisan PVD. Di titanium energi, kami menyediakan pengecoran atau penempaan target titanium, terbuat dari batang atau pelat titanium dan akhirnya mesin CNC, membantu meningkatkan fungsionalitas dalam berbagai aplikasi pelapisan. Target kami diproduksi oleh titanium dengan kemurnian tinggi dengan struktur yang halus dan seragam, yang dilakukan dengan ukuran partikel yang rendah di seluruh masa pakainya.

Spesifikasi Target Titanium

Dengan pesatnya perkembangan semikonduktor, informasi elektronik, dan bidang teknologi tinggi lainnya, jumlah titanium dengan kemurnian tinggi pada material target semakin meningkat. Target titanium yang dibuat dengan teknologi pelapisan sputtering memiliki kemurnian yang lebih tinggi dan ukuran butiran rata-rata yang lebih kecil untuk digunakan dalam semikonduktor, informasi elektronik, tampilan deposisi uap fisik (PVD), deposisi uap kimiawi (CVD), dan aplikasi optik.

Sektor aplikasi semikonduktor:

• Tampilan Panel Datar
• Sirkuit Terpadu

Energy-Ti mengkhususkan diri dalam memproduksi target sputtering Titanium dengan kemurnian tinggi untuk industri semikonduktor dan informasi elektronik dengan bentuk pelat, cakram, dan tabung. Jika Anda merasa tertarik dengan produk titanium, Anda juga dapat menghubungi kami melalui [email protected] atau langsung kirimkan pertanyaan kepada kami.